如何用渦流膜厚儀測量陽極氧化膜

渦流膜厚儀是利用渦電流原理進行測量的，要求基體金屬為非磁性且表面膜層不導(dǎo)電。當(dāng)測頭與試樣接觸時，測頭產(chǎn)生的高頻電流磁場，在基體金屬中會感應(yīng)出渦電流，此渦流電產(chǎn)生的附加電磁場會改變測頭參數(shù)，而測頭參數(shù)的改變則取決于與氧化膜或涂層厚度相關(guān)的測頭到基體之間的距離，渦流膜厚儀通過對測頭參數(shù)改變量的測量，經(jīng)過計算機分析處理，便可得到氧化膜或涂層的厚度值。

用渦流膜厚儀對鋁及鋁合金基體上氧化膜及涂層厚度進行測量，它具有快速、方便、非破壞性的特點。

特別適用于在生產(chǎn)現(xiàn)場、銷售現(xiàn)場或施工現(xiàn)場對產(chǎn)品進行快速無損的膜厚檢查，是當(dāng)前生產(chǎn)線質(zhì)量控制方面應(yīng)用最廣的方法。但由于渦流膜厚儀存在著固有的測量誤差，因此一般不適用于測量薄的轉(zhuǎn)化膜。

采用本試驗時應(yīng)注意各種因素對測量精度的影響，盡量減少或避免各種影響測量精度的因素。采用渦流膜厚儀測量膜厚，一般有以下影響測量精度的因素:待測的覆蓋層厚度、基體金屬電性質(zhì)、基體金屬厚度、邊緣效應(yīng)、試樣的曲率、試樣表面的粗糙度、試樣表面的附著物質(zhì)、測厚儀的測頭壓力、測厚儀測頭的放置、試樣的變形、環(huán)境溫度等。

為了保證測量精度，每臺渦流膜厚儀在測量前都應(yīng)進行校準(zhǔn)，當(dāng)基體材料的合金成分改變、試樣形狀改變及使用了較長時間等情況下建議進行再次校準(zhǔn)，校準(zhǔn)一般都采用沒有涂層的基體試樣進行零點校準(zhǔn)和采用已知精確厚度值的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片進行兩點或多點校準(zhǔn)，當(dāng)采用的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片為標(biāo)準(zhǔn)箔時，必須確保校準(zhǔn)箔與基體緊密接觸，避免使用有彈性的箱，以防止產(chǎn)生測量誤差。

在進行測量操作時，應(yīng)將探頭平穩(wěn)、垂直地置于清潔、干燥的待測試樣上，測頭置于試樣上所施加的壓力要保持恒定。通常由于渦流膜厚儀的每次讀數(shù)并不完全相同，因此必須在任一測量面積內(nèi)進行多次測量，并取其平均值。